4A 분자체 화학식: Na2O·Al2O₃·2SiO2·4.5H2O ₃
분자체의 작동 원리는 주로 분자체의 기공 크기와 관련이 있습니다. 분자체는 기공 크기보다 분자 직경이 작은 기체 분자를 흡착할 수 있으며, 기공 크기가 클수록 흡착 용량이 커집니다. 기공 크기에 따라 여과되는 물질도 달라집니다. 4a 분자체의 경우, 흡착되는 분자의 크기도 0.4nm 미만이어야 합니다.
4A 분자체는 주로 천연가스 및 다양한 화학 가스와 액체, 냉매, 약물, 전자 데이터 및 휘발성 물질의 건조, 아르곤 정제, 메탄, 에탄, 프로판 분리에 사용됩니다. 주로 공기, 천연가스, 탄화수소 및 냉매와 같은 가스 및 액체의 심층 건조, 아르곤의 제조 및 정제, 전자 부품 및 부패하기 쉬운 재료의 정적 건조, 페인트, 폴리에스터, 염료 및 코팅의 탈수제에 사용됩니다.
13X형 분자체는 나트륨 X형 분자체라고도 하며, 알칼리 금속 실리카루미네이트로, 특정 알칼리성을 가지고 있으며, 고체 염기의 일종에 속합니다.
화학식은 Na2O·Al2O3·2.45SiO2·6.0H20입니다.
기공 크기는 10A이며 3.64A 이상 10A 미만의 분자를 흡착합니다.
13x는 주로 다음에서 사용됩니다.
1) 공기 분리 장치에서 물과 이산화탄소를 제거하기 위한 가스 정화.
2) 천연가스, 액화석유가스, 액체탄화수소의 건조 및 탈황.
3) 일반적인 가스 심층 건조. 13X형 분자체는 나트륨 X형 분자체라고도 하며, 알칼리 금속 실리카알루미네이트로, 특정 알칼리성을 가지고 있으며, 고체 염기의 일종에 속합니다.
화학식은 Na2O·Al2O3·2.45SiO2·6.0H20입니다.
기공 크기는 10A이며 3.64A 이상 10A 미만의 분자를 흡착합니다.
13x는 주로 다음에서 사용됩니다.
1) 공기 분리 장치에서 물과 이산화탄소를 제거하기 위한 가스 정화.
2) 천연가스, 액화석유가스, 액체탄화수소의 건조 및 탈황.
3) 일반적인 가스 심도 건조.
게시 시간: 2024년 2월 18일
